光电子学与光电子产业专题系列介绍用于X射线光学的多层膜

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摘要用于Ｘ射线，特别是软Ｘ射线（波长范围约为３０－１ｎｍ）光学中的多层膜近十年来引起了人们的广泛重视，取得了许多重要进展．本文对这类多层膜的特点、制备和检测方法以及应用等作简要介绍．

作者曹健林

机构地区中国科学院长春光学精密机械研究所

出处《物理》 CAS 北大核心 1991年第5期288-291,共4页 Physics

关键词 X射线光学光电子学多层膜

参考文献2

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物理

1991年第5期

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