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阴极微弧电沉积钇稳定氧化锆涂层 被引量：17

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摘要 提出了一种新颖的阴极微弧电沉积技术（CMED）.利用该技术在FeCrAl合金上制备出厚的钇稳定氧化锆（YSZ）涂层.研究结果表明,在试样上预先沉积YSZ薄膜,施加高压电脉冲时可以导致微弧放电;在微弧的作用下可以获得厚度达 300μm具有晶态结构的 YSZ涂层;高压电脉冲的电压值和频率决定了沉积涂层的厚度;电解液中添加硝酸钇时,发生ZrO2和Y2O3的共沉积,可使涂层中的t-ZrO2,t’-ZrO2和c-ZrO2稳定到室温;提高电解液中Y（NO3）3的含量可以降低涂层中m-ZrO2的相对含量.研究了阴极微弧电沉积YSZ涂层的微观结构,分析了阴极微弧电沉积的基本过程及机理.
作者 杨晓战 何业东 王德仁 高唯
机构地区 北京科技大学 Schoolof Engineering
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第7期525-529,共5页 Chinese Science Bulletin
基金 本工作为国家自然科学基金项目(批准号:59971009) 并得到北京市腐蚀 磨蚀与表面技术重点实验室的资助.
关键词 氧化物涂层 钇稳定氧化锆 陶瓷涂层 阴极微弧电沉积
分类号 TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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同被引文献138

引证文献17

二级引证文献88

科学通报
2002年 第7期

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