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掺杂GaAs中杂质缺陷的研究
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摘要
本文利用红外吸收光谱、电子探针和X荧光光谱测量分析了GaAs中In、Cr、Si、Te、12~C、13~C等杂质。讨论了等电子掺杂、多重掺杂及同位素掺杂GaAs’中杂质的占位状态、与本征缺陷的相互作用及对材料均匀性和半绝缘性能的影响,并将部份测量结果与理论计算结果进行了对比研究。
作者
王琴
阎萍
何秀坤
李光平
汝琼娜
李晓波
机构地区
机械电子工业部第四十六研究所
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991年第1期34-37,21,共5页
Chinese Journal of Rare Metals
关键词
砷化镓
掺杂
杂质缺陷
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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稀有金属
1991年 第1期
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