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退火过程中自组织生长 Ge量子点的变化(英文)

Evolution of Self-Organized Ge Quantum Dots During Ultra High Vacuum Annealing
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摘要 在超高真空系统中 ,用扫描隧道显微镜 (STM)和原子力显微镜 (AFM)研究了自组织生长的 Ge量子点经不同温度退火后的变化 .实验发现 ,当退火温度为 6 30℃时 ,出现了许多新的量子点 .与原来的在分子束外延过程中形成的无失配位错的量子点相比 。 The evolution of self organized Ge quantum dots structure is investigated by scanning tunneling microscopy and atomic force microscopy during annealing treatment up to 700℃ in an ultra high vacuum(UHV) system.When the sample temperature rises to 630℃,a great amount of new dots emerge on the wetting layer,which are believed to be incoherent islands compared with the dislocation free coherent islands formed during molecular beam epitaxy growth.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期561-564,共4页 半导体学报(英文版)
基金 国家自然科学基金资助项目 (批准号 :1983 40 5 0 )
关键词 量子点 硅基材料 形貌评价 AFM 原子力显微镜 锗量子 退火 位错 quantum dots Si based materials evolution of morphology atomic force microscopy
  • 相关文献

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二级参考文献1

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共引文献3

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