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软X射线投影光刻技术及其发展(续)
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摘要
为了提高反射率,软X射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜,由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同时由于它是制备在镀有多层膜的较结实基片上,使用中有能力避免软X射线照射引起的掩膜热变形,便于实现高精度的光刻复制。在反射式掩膜技术中,需要着重考虑的是掩膜缺陷修复和降低多层膜的损伤。
作者
金春水
曹健林
机构地区
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
出处
《物理实验》
北大核心
2002年第6期3-6,共4页
Physics Experimentation
关键词
软X射线
投影光刻
技术发展
掩膜
多层膜
集成电路
制造技术
分类号
TN405.07 [电子电信—微电子学与固体电子学]
O434.19 [机械工程—光学工程]
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