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论位错的稳定存在 被引量:9

On the Stability of Dislocation
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摘要 阐述了 Thomas- Fermi- Dirac- Cheng电子理论的位错形成机制。通过对系统总能量的分析提出了位错能够存在的判据 。 Mechanism underlying the formation of dislocation is expounded on Thomas-Fermi-Dirac-Cheng(TFDC) electron theory. The criterion condition on the limit size of dislocation is raised, and the calculated results of the limit sizes of a set of elements are given.
出处 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期81-83,共3页 Rare Metal Materials and Engineering
关键词 位错 Thomas-Fermi-Dirac-Cheng 电子理论 极限尺寸 dislocation Thomas-Fermi-Dirac-Cheng limit size
  • 相关文献

参考文献3

  • 1[1]Flugge S.Encyclopedia of Physics,Vol.Ⅶ.Part 1[M].Berlin:Springer-Verlag,1955,Crystal Physics Ⅰ
  • 2[2]Cheng K J et al.Theoretical Foundation of Condensed Material[J].Progress in Natural Science,1996,6(1):12
  • 3[3]Li S C.Quantum Effect of the Superplastivity in Zn5Al Alloy[J].Progress in Natural Science,1999,9(9):656

同被引文献45

引证文献9

二级引证文献11

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