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0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻 被引量：3

0.1 μm node main lithography-193 nm(ArF) lithography
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摘要 阐述了可实现 0 1μm线宽器件加工的几种候选光刻技术 ,对 193nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述 ,指出其在 0 1μm技术段的重要作用 ,并提出了研制 193nm(ArF)光刻设备的一些设想。 In this paper,I discuss several lithography which can achieve 0.1 μm node.Then I detailedly discuss 193 nm(ArF)lithography and point out its importance.Finally,I show some plans about 193 nm(ArF)lithography.
作者 陈兴俊 胡松 姚汉民 刘业异
机构地区 中国科学院光电技术研究所
出处 《电子工业专用设备》 2002年第1期27-31,共5页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词 光学光刻 光刻设备 193nm光刻 Optical lithography Lithographic equipment 193 nm lithography
分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献25

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共引文献18

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引证文献3

二级引证文献20

电子工业专用设备
2002年 第1期

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