Co／Cu多层膜反铁磁第一、第二峰耦合结构的磁电阻与结构研究

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摘要确定了Co/Cu多层膜的第一和第二反铁磁耦合对应的非磁层（Cu)的厚度，对相同厚度铁磁层（Co)制备了第一与第二反铁磁耦合的Co/Cu多层膜，利用同步辐射掠入射X射线散射（衍射）技术研究了耦合多层膜的界面结构，探索了耦合多层膜中磁电阻增强的可能原因。

作者谭伟石王俊

机构地区南京大学固体微结构物理国家重点实验室中国科学院高能物理研究所

出处《高能物理与核物理》 CSCD 北大核心 2001年第B12期106-109,共4页 High Energy Physics and Nuclear Physics

关键词 Co/Cu多层膜反铁磁耦合结构结构同步辐射衍射金属多层膜磁电阻钴铜

分类号 O484.43 [理学—固体物理] O484.1 [理学—固体物理]

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