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对向平面双阴极磁控溅射装置及超硬涂层研究

Equipment of Magnetron Sputtering with Opposite Double Plane Cathodes and Study on Super-hardness Coated Layer
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摘要 本文介绍对向平面双阴极磁控溅射装置,同时作为一种制取超硬涂层的新方法,TIN涂层的工艺亦在本文中作了讨论. The equipment of magnetron sputtering with opposite double plane cathodes is introduced in this paper.As a new method for producing the super-hardness coated layer,the process of TiN layer is also discussed here.
出处 《真空》 CAS 北大核心 1991年第1期27-31,共5页 Vacuum
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