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50型MEVVA源离子注入机 被引量:2

TYPE-50 MEVVA ION IMPLANTER
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摘要 详细介绍了 5 0型强束流、大束斑MEVVA源注入机的结构和各项性能 .5 0型MEVVA源注入机是北京师范大学低能核物理研究所于九五期间承担的“八六三”计划项目“先进离子束注入技术的工业应用”所取得的成果 。 Type 50 MEVVA ion implanter, which is the outcome of project '863 715 008 0040', is presented. The implanter is remarkable with its intense beam current and wide beam spot. It is an industry purpose apparatus.
出处 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期496-499,共4页 Journal of Beijing Normal University(Natural Science)
基金 国家"八六三"计划资助项目
关键词 MEVVA源 离子注入机 材料表面改性 真空靶室 电源 低能核物理 控制测量系统 material surface modification MEVVA ion source ion implanter
  • 相关文献

参考文献2

  • 1[1]Zhang Huixing, Zhang Xiaoji, Zhou Fengsheng, et al. High-current Metal-ion source for ion implantation[J]. Rev Sci Instrum, 1990, 61(1):547
  • 2[2]Brown I G, Galvin J E, Gavin B F, et al. Metal vapor vacuum ion source[J]. Rev Sci Instrum, 1986, 57:1069

同被引文献14

引证文献2

二级引证文献4

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