KLA-Tencor宣布推出新型TeronTM SL650光掩膜检测系统

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摘要 KLA—Tencor公司日前宣布推出TeronTM SL650，该产品是专为集成电路晶圆厂提供的一种新型光掩膜质量控制解决方案，支持20nm及更小设计节点。TeronSL650采用193nm光源及多种STARlightTM光学技术，提供必要的灵敏度和灵活性，以评估新光掩膜的质量，监控光掩膜退化，并检测影响成品率的光掩膜缺陷。

出处《中国集成电路》 2014年第7期7-7,共1页 China lntegrated Circuit

关键词检测系统掩膜质量控制集成电路光学技术 KLA 灵敏度成品率

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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