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Effect of Deposition Temperature on Some Properties of MOCVD Molybdenum Sulphide Thin Films

Effect of Deposition Temperature on Some Properties of MOCVD Molybdenum Sulphide Thin Films
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出处 《材料科学与工程(中英文B版)》 2014年第4期78-85,共8页 Journal of Materials Science and Engineering B
关键词 沉积温度 MOCVD 钼薄膜 硫化钼 金属有机化学气相沉积 扫描电子显微镜 性质 原子力显微镜 Substrate, temperature, thickness, band gap, morphology.
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