第十九讲 真空溅射镀膜

（接2014年第4期第96页）（3）杂质的影响。杂质气体掺入膜中,影响膜的性能,影响膜与基片的结合强度。杂质会成为新的成核中心。（4）带电粒子的影响。快电子轰击基片导致温升,离子会引起反溅射。（5）荷能粒子的影响。能量足够大的溅射气体原子,轰击基片时,会渗入膜层或引起反溅射,使薄膜受损伤,产生缺陷改变膜的结构。4.5溅射沉积速率沉积速率是表征成膜速度的参数,薄膜材料在基片上的沉积速率是指从阴极靶上逸出的材料，在单位时间内沉积到基片上的厚度。