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空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(上)

High rate deposition of photocatalytic TiO_2 films with high activity by hollow cathode gas-flow sputtering method
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摘要 光催化剂TiO2薄膜是用两个平行Ti靶的空心阴极气流溅射方法沉积而成,氩气和氧气流量分别是3000 sccm和0~ 50 sccm,在沉积过程中总气压维持在45 Pa.在氧气流量为30 sccm时,TiO2膜最大沉积率为162 nm/min,之后在空气中300℃,1h进行退火工艺,用来作光催化分解乙醛(CH3CHO),和一般反应溅射相比,后退火膜显示出非常高的光催化作用.
机构地区 清华大学
出处 《太阳能》 2014年第9期16-17,共2页 Solar Energy
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