真空技术及应用系列讲座 第十九讲 真空溅射镀膜

靶-基距对沉积速率有很大影响，图19给出了S-枪靶的靶基距对沉积速率的影响。从图中可见，随着靶基距的增加，沉积速率呈双曲线状下降。沉积速率随靶-基距的增加而下降是由于靶材粒子在迁移过程中的散射效应引起的。为了提高薄膜的沉积速率，可在保证阴极靶稳定放电和统筹考虑保证膜层厚度均匀性的前提下，尽量减小靶一基距，一般靶基距的最小值为5～7cm。