期刊文献+

浅谈如何提高ITO靶材使用率

下载PDF
导出
摘要 本文介绍了ITO靶材的主要制备方法、液晶显示对ITO靶材要求、磁控溅射沉积技术的应用。并提出了提高靶材利用率的几种方法:靶材厂商改变靶材结构提高使用率、旋转靶材的应用提高使用率、调整磁场强度提高ITO靶材使用率、靶材位置互换提高靶材使用率。供广大看客参考。
作者 张飞 李亚明
出处 《电子世界》 2014年第24期483-483,共1页 Electronics World
  • 相关文献

参考文献4

二级参考文献13

  • 1林揆训,林璇英,符史流,陈家宜.用动态变化的电子束蒸发工艺制备优质ITO透明导电膜[J].功能材料,1993,24(5):407-411. 被引量:5
  • 2吴全德 薛增全.科技导报,.
  • 3J.H.芬德勒著,江龙等译.《尖端材料的膜模拟》,北京:科学出版社,1999年10月
  • 4SuzukiA,ShimadaT,LomaA.JpnJApplPhys,1996,35:L254
  • 5XueZQ,OuyangM,WangKZetal.ThinSolidFilm,1996,288:296
  • 6UsuiH,KikuchiH,TanakaK.JVacSciTechnol,1998,A16(1):108
  • 7符小艺 牟涛 王建 朱涛 刘忠范.物理化学学报,(11).
  • 8日本专利;JP昭52-10084
  • 9金原粲(日本)著,杨希光译,《薄膜的基本技术》,北京:科学出版社,1982年
  • 10D.R.Charles,etal:AdvancesinElectronicsandElectronPhysics,33A,p279(AcademicPress,1972)

共引文献46

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部