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浅谈如何提高ITO靶材使用率
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摘要
本文介绍了ITO靶材的主要制备方法、液晶显示对ITO靶材要求、磁控溅射沉积技术的应用。并提出了提高靶材利用率的几种方法:靶材厂商改变靶材结构提高使用率、旋转靶材的应用提高使用率、调整磁场强度提高ITO靶材使用率、靶材位置互换提高靶材使用率。供广大看客参考。
作者
张飞
李亚明
机构地区
南京中电熊猫液晶材料科技有限公司
出处
《电子世界》
2014年第24期483-483,共1页
Electronics World
关键词
旋转靶材
平面靶材
磁控溅射
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
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