最新进展 我国超低反射电磁屏蔽窗口研制

中国科学院上海光学精密机械研究所中科院强激光材料重点实验室超低反射电磁屏蔽窗口的研制工作取得新进展，完成供样检测，并实现小批量量产能力。制备的窗口元件可见区平均透过率大于90％，明视觉反射率低于0．4％，面电阻低于l0欧姆，理论电磁屏蔽能力优于24dB，经用户确认，性能指标处于国内领先，达到国际先进水平。