期刊文献+

浅析真空镀膜显现潜在手印技术 被引量:4

下载PDF
导出
摘要 介绍了真空镀膜技术的基本概念、发展现状、真空条件下镀膜所需的真空条件、手印显现原理、适用范围以及与显现非渗透性客体适用性最广的"502"熏显法之间的比较和增强处理。
出处 《警察技术》 2015年第1期39-41,共3页 Police Technology
  • 相关文献

参考文献7

二级参考文献17

  • 1李善光,韩茂林.潜在手印显现工艺[M].北京:中国人民公安大学出版社,1992:89.
  • 2Naomi Jones, Milutin Stoilovic, Chris Lennard, Claude Roux. Vacuum metal deposition: factors affecting normal and reverse development of latent fingerprints on po- lyethylene s ubstrates[J]. J Forensic Sci, 2001,115 ( 2 ) : 73-88.
  • 3Naomi Jones, Danielle Mansour, Milutin Stoilovic, Chris Lennard,Claude Roux. The influence of polymer type, print donor and age on the quality of fingerprints developed on plastic substrates using vacuum metal deposition.[J]. J Forensic Sci,2001,124(5) : 167-177.
  • 4邸英浩 曹晓明.真空镀技术的现状及进展.金属材料的开发与应用,2004,.
  • 5吴全德 薛增全.科技导报,.
  • 6J.H.芬德勒著,江龙等译.《尖端材料的膜模拟》,北京:科学出版社,1999年10月
  • 7SuzukiA,ShimadaT,LomaA.JpnJApplPhys,1996,35:L254
  • 8XueZQ,OuyangM,WangKZetal.ThinSolidFilm,1996,288:296
  • 9UsuiH,KikuchiH,TanakaK.JVacSciTechnol,1998,A16(1):108
  • 10符小艺 牟涛 王建 朱涛 刘忠范.物理化学学报,(11).

共引文献38

同被引文献47

引证文献4

二级引证文献7

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部