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自掩膜光刻工艺研究及在PSS产品中的应用

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摘要 本文研究了采用普通的接触式光刻机来制作PSS产品,并且使光刻出的PSS具有与stepper光刻机相同的效用,研究结果表明,通过开发出的自掩膜光刻工艺技术可以制作出与stepper光刻机相同规格的PSS产品,并将其制作成大功率LED器件,封装后在100m A电流驱动下率出光效率都达到了99lm/w。
作者 袁根如
机构地区 中国
出处 《科技视界》 2015年第1期124-124,187,共2页 Science & Technology Vision
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