晶闸管光刻的工艺原理分析

光刻工艺是一种复印图像同化学腐蚀相结合的技术。它先采用照相复印的方法,把光刻版上的图形精确地复印在涂有感光胶的二氧化硅层或金属蒸发层上,然后利用光刻胶的保护作用,对二氧化硅或金属层进行选择性腐蚀,从而在二氧化硅或金属层上得到与光刻版相应的图形。