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等离子设备加工高厚径比产品工艺研究 被引量:4

Plasma desmear for high aspect ratio PCB
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摘要 文章通过对孔壁平均去钻污量的数据分析,研究了厚径比与孔壁平均去钻污量的规律,初步界定了等离子去钻污加工高厚径比的能力。通过对等离子去钻污均匀性的控制,控制平均去钻污量,从而得到高厚径比产品稳定加工品质。 This paper showed the control rules of average desmear volume with different aspect ratio by mass hole wall desmear data, and grasped the plasma process capability against the high aspect ratio through hole. It can obtain steady result for high aspect ratio board through hole process quality by controlling the plasma process uniformity.
作者 陈于春 黄蕾
出处 《印制电路信息》 2014年第8期28-31,共4页 Printed Circuit Information
关键词 等离子去钻污 均匀性 高厚径比 Plasma Desmear Evenness High Aspect Ratio
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献2

  • 1张怀武.现代印制电路的原理与工艺[M].电子科技大学.
  • 2King, John. Rigid-flex Boards/Looking at a firm future. FPC Fabrication/vol. 19, no.9, Sept,1996.

共引文献1

同被引文献5

引证文献4

二级引证文献4

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