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从专利技术角度浅谈光学防伪技术的发展
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摘要
本文对防伪印刷中的光学防伪技术领域的专利申请趋势、专利申请产出国和申请人分布进行了统计分析,并重点针对光学防伪四大主要研究方向进行技术分析,对其技术方向和技术手段的发展脉络进行了梳理。通过本文的撰写,以期帮助审查员快速准确地把握技术要点,以提高检索和审查效率。
作者
李斌
机构地区
国家知识产权局专利局专利审查协作江苏中心
出处
《山东工业技术》
2015年第1期33-35,共3页
Journal of Shandong Industrial Technology
关键词
印刷
防伪
光学防伪
专利分析
技术综述
分类号
TS853.6 [轻工技术与工程]
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山东工业技术
2015年 第1期
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