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光学超分辨成像精度破极限达4.1纳米

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摘要 中国科大郭光灿院士领导的中科院量子信息重点实验室孙方稳研究组,利用光学超分辨成像技术实现了对单个自旋态的纳米量级空间分辨率测量和操控,其成像精度达到4.1纳米。研究成果1月2日发表在《自然》子刊《光:科学与应用》上。
出处 《中国科技财富》 2015年第1期8-8,共1页 China Science and Technology Fortune Magazine
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