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光学超分辨成像精度破极限达4.1纳米
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摘要
中国科大郭光灿院士领导的中科院量子信息重点实验室孙方稳研究组,利用光学超分辨成像技术实现了对单个自旋态的纳米量级空间分辨率测量和操控,其成像精度达到4.1纳米。研究成果1月2日发表在《自然》子刊《光:科学与应用》上。
出处
《中国科技财富》
2015年第1期8-8,共1页
China Science and Technology Fortune Magazine
关键词
光学超分辨
纳米量级
成像精度
极限
重点实验室
分辨率测量
量子信息
中国科大
分类号
O171 [理学—基础数学]
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