次世代微影术及其非破坏式光学量测系统之研究

本论文可概分为三部分：1改善用于极紫外光（Extreme ultraviolet,EUV）微影系统之多层膜反射镜之反射率以及其等效计算方法;2开发用于多尺度（multi-scale）电子束直写（Electron-beam directwrite,EBDW）微影系统之数值计算方法;3开发非破坏式光学检测系统用于量测光阻线（photo-resist lines）之几何外形与多层膜彩色滤光片（color filter）之光学性质。对于极紫外光反射镜之研究,我们设计了以40层钼/硅多层膜为基底之光子晶体（photonic crystal）反射镜。