实现更高效的双靶磁控溅射（DMS）降低设备持有成本的策略

电源对于降低镀膜系统运营总成本起着至关重要的作用。靶材浪费可以通过平衡靶材溅射速率来减少，最简单的方法是平衡通入到各磁控靶的供电功率。更为先进的策略是考虑靶表面的反应溅射工作点，使得两个靶同时达到使用周期结束，在符合稳定工艺条件的最低频率下运行，能够降低电能消耗．通过控制各磁控靶的工作点，运行逐渐升高的过渡曲线，可以进一步降低能耗。由于维护和修理造成的停机时间可以通过电源模块化设计减少。这使得终端用户可以通过交换电源模块自行处理，同时在终端用户现场实现电源的维护和修理。本文将阐述先进的双靶磁控溅射电源如何成为这些设备持有成本降低策略的关键。