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Cadence与海思在FinFET设计领域扩大合作
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摘要
Cadence日前宣布,已与海思半导体(HiSilicon)签署合作协议,将于16nm FinFET设计领域大幅扩增采用Cadence数字与客制/模拟流程,并于10nm和7nm工艺的设计流程上密切合作。
机构地区
Cadence
出处
《中国集成电路》
2015年第1期48-48,共1页
China lntegrated Circuit
关键词
CADENCE
FINFET
合作协议
设计流程
模拟流程
半导体
分类号
TN302 [电子电信—物理电子学]
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