摘要
仪器英文名：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposit ion System
规格型号：JZPE-400F
制造商：沈阳聚智真空设备有限公司
产地：中国
主要技术指标：1、设备总功率：7KW。
2、样片台尺寸为156mm×156mm，样片加热台加热温度为100℃～600℃，可自动控温、测温。
出处
《渤海大学学报（自然科学版）》
CAS
2015年第1期F0003-F0003,共1页
Journal of Bohai University:Natural Science Edition
