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合金点导致的双极产品低良失效及改善方法研究

Improvement Method Study on Low Yield Failure of Bipolar Product Induced by Alloy Dot in MCD Process
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摘要 双极产品具有较多的优点,在很多领域都有广泛的应用。为提高电流的性能,需要在集电极下制作隐埋层,由隐埋层工艺异常导致的双极产品失效问题时有发生。详细介绍了双极产品发生低良失效问题,经过失效分析发现失效由锑源MCD涂布过程中产生的合金点导致,从失效机理进行了解释,经过工艺优化,减少了合金点的发生,为提高产品的良率提供了保证。 Bipolar product has much virtue and applies in many fields. Failure induced by process defect occurs sometimes. Bipolar product suffered from low yield failure. After FA analysis, alloy dot in MCD process has relationship to failure and the mechanism was studied. In order to improve yield, process will be optimized to reduce alloy dots.
出处 《电子工艺技术》 2015年第3期146-149,共4页 Electronics Process Technology
关键词 双极型晶体管 隐埋层 失效分析 MCD 合金点 Bipolar Buried layer Failure analysis MCD alloy
  • 相关文献

参考文献3

  • 1郑大恒.硅乳胶源扩散技术[J].半导体技术,1985(03):17-21.
  • 2姚勤泽.二氧化硅掺砷乳胶源的涂布扩散[J].半导体技术,1984(01):49-52.
  • 3洪恒,李心海.锑乳胶源埋层扩散[J].半导体技术,1988(03):4-7.

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