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氧化锌薄膜材料研究
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摘要
1997年发现室温紫外激光受激发射现象以来,Zn O就逐渐成为宽带隙光电材料领域的热点之一。Zn O为Ⅱ-Ⅵ族化合物,是一种宽禁带直接带隙半导体材料,室温下禁带宽度为3.37 e V,可见光区透过率达80%以上。本文总结了氧化锌薄膜的制备方法、发光原理等方面的研究进展,展望了氧化锌研究的热点应用。
作者
肖扬
机构地区
梅河口第五中学
出处
《山东工业技术》
2015年第14期196-196,共1页
Journal of Shandong Industrial Technology
关键词
ZNO
薄膜
制备方法
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
TB383.2 [一般工业技术—材料科学与工程]
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