摘要
20世纪50年代,为了满足国防化工的需要,公司开展了三氟化硼的合成、分析研究,对三氟化硼特点进行了系统性摸索,获得了三氟化硼纯化装置设计必需的软件包。80年代,随着我国电子工业的迅猛发展,三氟化硼成为半导体生产必须的掺杂源,公司承担化工部课题,率先在国内对三氟化硼的分析、包装、净化等进行了系统性研究,最终项目获得了化工部科技进步三等奖及国家发明专利。该项目也是光明院承担的国家“02”重大专项的品种之一。
出处
《低温与特气》
CAS
2015年第3期54-54,共1页
Low Temperature and Specialty Gases