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电镀填盲孔薄面铜化技术研究 被引量:3

Study on thin surface copper technology in blind via filling plating
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摘要 为满足印制电路精细线路的设计,对制作设备、材料和工艺技术等提出了更高的要求,尤其是HDI印制板的薄面铜化工艺技术,对精细线路的制作有着十分重要的意义。文章将就电镀填盲孔薄面铜化工艺技术进行相关试验研究,得出在确保盲孔凹陷度小于15μm的前提下,电镀添加剂最佳组分配比,该条件下电镀层的厚度最薄,从而满足精细线路的制作要求。 In order to meet the needs of fine lines PCB, it requests higher requirements to equipment, materials and technology. Especially the thin surface copper has significance for the production of fine lines in HDI process technology in PCB. In this paper relative experiment research of thin surface copper in blind via filling plating process was made. It draw a conclusion that by ensuring the blind via dimple less then 15pm, making the best ratio of the electroplating additive and under the conditions of the thinnest plating thickness, we can meet the requirements of the laroduction of fine lines.
出处 《印制电路信息》 2015年第5期44-46,58,共4页 Printed Circuit Information
基金 广东省教育部产学研项目(项目编号:2012A090200007)的资助
关键词 脉冲电镀 盲孔填铜 精细线路 凹陷度 添加剂 Pulse Plating Blind Via Filling Plating Fine Line Dimple Electroplating Additive
  • 相关文献

参考文献3

  • 1北京晨报网.中国于机商猛攻美国市场.出海速度全面加快[J/OL].http://www.morningpost.com.cn/.2015.1.9.
  • 2陈世金,邓宏喜,李云萍等.电流参数对电镀填盲孔效果影响研究[J].印制电路信息,2014,S1:182-185.
  • 3徐缓,陈世金,罗旭等.一种采取不同电流参数组合的电镀填盲孔方法[P].中国发明专利号:ZL201210124270.4.

同被引文献21

引证文献3

二级引证文献4

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