期刊文献+

浅析GaN基新型结构HEMT器件

下载PDF
导出
摘要 近些年来,随着时代经济的飞速发展以及科技的进步,GaN材料不仅仅有着较高的饱和电子迁移速度,同时也有着较高的击穿场强。对于GaN基的HEMT器件而言,是实现毫米波功率器件的一种重要选择。分析GaN基新型结构HEMT器件时,首先对GaN基新型结构HEMT器件的发展历程进行回顾,其次对GaN基新型结构HEMT器件的设计原理做了具体的分析,最后探讨了GaN基新型结构HEMT器件的基本结构。
作者 姜文海
出处 《科技创业月刊》 2015年第15期93-94,共2页 Journal of Entrepreneurship in Science & Technology
  • 相关文献

参考文献10

二级参考文献70

  • 1王冲,刘道广,郝跃,张进城.基于AlGaN/GaNHEMT的功率放大器的研究进展[J].微电子学,2005,35(3):245-247. 被引量:3
  • 2刘喆,王晓亮,王军喜,胡国新,郭伦春,李晋闽.The influence of AlN/GaN superlattice intermediate layer on the properties of GaN grown on Si(111) substrates[J].Chinese Physics B,2007,16(5):1467-1471. 被引量:2
  • 3Thumpson R, Prunty T, Shely J R. Performance of the AlGaN HEMT structure with a gate extension[J]. IEEE Trans on Electron Devices, 2004, 51(2): 292-295.
  • 4Neuburger M, Zimmermann T, Kohn E, et ah Un- strained InAlN/GaN HEMT structure[J]. IEEE LEC on High Performance Device, 2004,14(3):785-790.
  • 5Kuzmik J, Kostopoulos A, Konstantinidis G, et al. InAlN/GaN HEMTs: a first insight into technological optimization[J]. IEEE Trans Electron Devices, 2006, 53(3) : 422-426.
  • 6Gonschorek M, Carlin J F, Feltin E. High electron mobility lattice-matched AlInN/GaN field-effect tran- sistor heterostructure[J]. Appl Phys Lett, 2006, 89 (6):2106-2109.
  • 7Medjdoub F, Carlin J F, Ganschorek M. Can InAlN/ GaN be an alternative to high power/high temperature AlGaN/GaN devices? [C]. IEDM, 2006: 927-930.
  • 8Medidoub F, Carlin J F, Gaquiere C, et al. Status of the emerging InAlN/GaN power HEMT technology [J]. Open Electrical Electronic Engin, 2008:1-7.
  • 9Carlin J F, Zellweger C, Dorsaz J, et al. Crack-free fully epitaxial nitride microcavity using highly reflec- tive AlInN/GaN Bragg mirrors [J]. Appl Phys Lett, 2005,86 (3) : 1107-1110.
  • 10Palacios T, Chakraborty A, Rajah S, et al. High-power A1GaN/GaN HEMTs for Ka-band applications [ J ]. IEEE Electron Device Lett. ,2005,26( 11 ) :781 -783.

共引文献23

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部