在线Low—E玻璃的理论与实践

采用常压化学气相沉积法（APCVD）在浮法玻璃生产线上直接制备低辐射镀膜玻璃（在线Low—E）具有产量大、成本低、膜层硬度大、耐久性强等优点。但由于镀膜是在移动的玻璃板上进行的，镀膜工艺必须与浮法工艺相匹配，使得各项工艺参数的操作和优化难度很大。除了优良的光电性能和大面积均匀性的要求之外，还要有较高的膜层生长速率和反应气体利用率，为此，需要对镀膜过程的热力学和动力学有深入的了解。本文对反应气体的气相化学和表面化学进行了综述，对膜层生长速率和反应气体利用率的影响因素进行了讨论，对水和氧的作用进行了分析，已有的研究结果表明，反应器的结构、与玻璃板的距离、气体的流速、MBTC含量、反应气体的温度等因素都对薄膜的生长速率和利用率有影响。H2O与MBTC的分解产物一起形成了活性更高的气相中间产物，或者在表面形成了羟基基圆，促进了MBTC的表面反应。而O2的作用则是消除表面的碳，使得表面保持活性以利于薄膜的沉积。