摘要
综述了化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)三类气相沉积技术制备高硅钢的工艺和路线,并对其前景进行了展望。
The vapor deposition technologies of CVD, PVD and PCVD for producing 6.5wt%Si high silicon steel were summarized, the prospect was also given.
出处
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2015年第20期7-10,18,共5页
Hot Working Technology
基金
湖北省自然科学基金项目(2012FFB04901和2008CDA040)
湖北省教育厅科学技术研究重大项目(Z20081101)
关键词
6.5%Si高硅钢
气相沉积技术
制备工艺
6.5%Si high silicon steel
vapor deposition technology
preparation technology
