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Cadence与IMEC完成5nm测试芯片设计定案

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摘要爱美科（IMEC）与Cadence日前共同宣布，采用极紫外光光刻工艺（EUV）与193浸润式（193i）光刻技术完成首款5nm测试芯片的设计定案（tapeout）。

出处《中国集成电路》 2015年第11期9-10,共2页 China lntegrated Circuit

关键词 CADENCE 芯片设计测试光刻技术光刻工艺紫外光

分类号 TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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中国集成电路

2015年第11期

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