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二氧化钛-氧化石墨插层材料的光催化性能研究
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摘要
以氧化石墨及硫酸钛、十六烷基三甲基溴化铵作为起始反应物,制备了二氧化钛一氧化石墨插层材料,并考察了样品在紫外光下光催化降解甲基橙的催化性能。结果表明:该插层材料作为光催化剂比P25纳米TiO2表现出更高的催化活性,并且经4次重复利用后,仍保持很高的光催化活性。
作者
纪美茹
机构地区
厦门医学高等专科
出处
《科学家》
2015年第9期34-35,共2页
Scientist
关键词
氧化石墨
TIO2
插层材料
光催化
分类号
TB3 [一般工业技术—材料科学与工程]
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