微反射镜非掩膜光刻方法引起美国防机构强烈兴趣

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摘要《亚太电子商情》2003年10月报道:由Semiconductor Research公司(SRC)及美国国防先进研究项目局组织的Low Volume Patterning Workshop预计将讨论基于微反射镜阵列的非掩膜光刻方法所存在的技术挑战。工作组旨在基于一个可编程或可重配置的掩膜,从5000万～1亿个微反射镜阵列生成一个扫描器,每一个反射镜测量不到10个微米。

作者郑冬冬

出处《半导体信息》 2003年第6期25-26,共2页 Semiconductor Information

关键词掩膜微反射镜技术挑战图形生成研究项目光脉冲演示工具光阻小批量产品合资企业

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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