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NEC开发超微细三维立体结构毫微米新技术
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摘要
最近,NEC在世界上首次开发迄今尚未达到的100nm以下的三维立体结构新技术。在制作超微细立体结构的技术研究开发中,在构成体(硅片)加工尺寸变小的同时,从三维加工向三维加工过渡的技术也在向前发展。此制作技术期待在各领域应用,并也在探索开拓新领域。而现在此微小立体构造的制作方法中。
作者
章从福
出处
《半导体信息》
2003年第6期42-42,共1页
Semiconductor Information
关键词
三维立体结构
NEC
加工尺寸
三维加工
聚焦离子束
计算机控制
硅半导体
制作法
下超
造形
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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半导体信息
2003年 第6期
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