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200毫米硅单晶抛光片项目通过国家验收

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摘要北京有色金属研究总院承担的"直径200毫米(8英寸)硅单晶抛光片高技术产业化示范工程"项目2003年12月19日通过国家验收。这条生产线是我国目前建设成功的第一条可满足0.25μm线宽集成电路需求的8英寸硅单晶抛光生产线。

作者章从福

出处《半导体信息》 2004年第3期40-40,共1页 Semiconductor Information

关键词硅单晶抛光片技术产业化线宽

分类号 F426.63 [经济管理—产业经济]

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半导体信息

2004年第3期

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