国内首条砷化镓芯片工业生产线在南京竣工被引量：1

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作者章从福

出处《半导体信息》 2006年第5期1-2,共2页 Semiconductor Information

关键词砷化镓工业生产线化合物半导体微电子材料光电子材料实质阶段产业基地生产研发光电集成半导体材料

同被引文献9

1沈能珏.砷化镓（GaAs）材料质量表征技术的新进展[J].半导体杂志,1995,20(4):1-11. 被引量：2
2唐运雪.有机废气处理技术及前景展望[J].湖南有色金属,2005,21(5):31-35. 被引量：58
3中华人民共和国卫生部.工业企业设计卫生标准(TJ36-79)[S/0L].[2010-10一151(2011-01-04).http://wenku.baidu.com/view/d88b3e8984868762caaed5f1.html.
4污水综合排放标准(GB8978-1996)[S/0L].[2010-07-16](2011-01-04).http://wenku.baidu.com/view/eoae07649b6648d7c1c7467b.html.
5蒋荣华,肖顺珍.砷化镓材料的发展与前景[J].世界有色金属,2002(8):7-13. 被引量：13
6蔡艳.砷化镓芯片生产线——半导体产业布局中的新亮点[J].半导体技术,2003,28(4):19-20. 被引量：4
7杨洁,顾海红,赵浩,徐炎华.含砷废水处理技术研究进展[J].工业水处理,2003,23(6):14-18. 被引量：71
8黄国洲,张翼,哈建宇.砷化镓与硅半导体制造工艺的差异分析[J].电子测试,2003,16(9):45-53. 被引量：1
9张向京,刘迎祥,金君素,田学芳.用聚合硅酸铁处理砷化镓生产废水的研究[J].化工环保,2003,23(5):257-260. 被引量：9

半导体信息

2006年第5期

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