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英特尔公司称EUV光刻技术的发展赶不上其工艺进展的步伐

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摘要在最近召开的SPIE高级光刻技术会议上,Intel公司称EUV光刻技术应用到大批量生产的时间点将会迟于Intel推出14 nm制程产品的时间点,而且按现在的发展趋势来看,很可能连Intel的10 nm制程都会赶不上!不过对其它芯片代工厂以及内存芯片制造商而言,仍有可能赶在他们推出16/14

作者沈熙磊

出处《半导体信息》 2011年第2期27-27,共1页 Semiconductor Information

关键词光刻技术 EUV 内存芯片代工厂批量生产 SPIE 发展趋势光刻机量产化程节

分类号 F416.63 [经济管理—产业经济]

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半导体信息

2011年第2期

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