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IR推出双PQFN2×2和双PQFN3.3×3.3功率MOSFETs

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摘要 国际整流器公司(简称IR)扩展其PQFN封装系列,推出PQFN 2mm×2mm和PQFN 3.3mm×3.3mm封装。新型封装集成了两个采用IR最新硅技术的HEXFETMOSFET,为低功率应用提供高密度、低成本的解决方案,这些应用包括智能手机、平板电脑、摄像机、数码相机、直流电动机、无线感应充电器、
作者 江兴
出处 《半导体信息》 2011年第4期7-8,共2页 Semiconductor Information
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