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尔必达宣布开始销售采用TSV技术制作的DDR3 DRAM样品芯片
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摘要
日本尔必达公司27日宣布已经开始销售采用硅通孔互连技术(TSV)制作的DDR3 SDRAM三维堆叠芯片的样品。这款样品的内部由四块2Gb密度DDR3 SDRAM芯片通过TSV三维堆叠技术封装为一块8Gb密度DDR3 SDRAM芯片(相当1GB容量),该三维芯片中还集成了接口功能芯片。
作者
沈熙磊
出处
《半导体信息》
2011年第4期19-20,共2页
Semiconductor Information
关键词
DDR3
DRAM
TSV
尔必达
互连技术
接口功能
通孔
待机能耗
工业技术发展
笔记本产品
首款
分类号
F416.6 [经济管理—产业经济]
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