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尔必达宣布开始销售采用TSV技术制作的DDR3 DRAM样品芯片

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摘要 日本尔必达公司27日宣布已经开始销售采用硅通孔互连技术(TSV)制作的DDR3 SDRAM三维堆叠芯片的样品。这款样品的内部由四块2Gb密度DDR3 SDRAM芯片通过TSV三维堆叠技术封装为一块8Gb密度DDR3 SDRAM芯片(相当1GB容量),该三维芯片中还集成了接口功能芯片。
作者 沈熙磊
出处 《半导体信息》 2011年第4期19-20,共2页 Semiconductor Information
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