IMEC利用配备LA-DPP光源的EUV曝光装置成功曝光晶圆

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摘要 IMEC宣布,成功利用ASML的EUV(extremeultraviolet)曝光装置NXE:3100进行曝光。该EUV曝光装置配备了日本牛尾电机的全资子公司德国XTREMEtechnologiesGmbH公司生产的LA-DPP(laserassisted dischargeprodu cedplasma)方式EUV光源。IMEC于2011年3月导入了曝光装置单机和EUV光源。

作者郑冬冬

出处《半导体信息》 2011年第4期24-24,共1页 Semiconductor Information

关键词曝光装置 EUV IMEC LA-DPP 研究设施显影装置涂布输出功率偶极时可

分类号 F416.6 [经济管理—产业经济] TN305 [电子电信—物理电子学]

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