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IMEC计划2015年以后逐步引入450 mm工艺研发能力美国将继续领先下一代半导体制造技术
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摘要
欧洲半导体工艺研发机构IMEC总裁Luc Van den hove日前透露,IMEC将在2015年以后,有选择地对部分450 mm硅片关键工艺形成研发能力,这些关键工艺包括光刻和晶体管控制栅的制造。
作者
沈熙磊
出处
《半导体信息》
2011年第5期9-10,共2页
Semiconductor Information
关键词
半导体制造
IMEC
MM
工艺研发
晶圆制造
光刻设备
研发能力
可维护性
纽约州
生产设备
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
F426.6 [经济管理—产业经济]
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半导体信息
2011年 第5期
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