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中芯国际0.11微米制程缩小31%面积

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摘要中芯国际集成电路制造有限公司于3月9日宣布,其0.11微米后段铜制程(Cu-BEoL)超高密度IP库解决方案可为客户平均节省31%芯片面积。中芯国际此次发布的超高密度IP库解决方案,与传统IP库相比。

作者吴琪乐

出处《半导体信息》 2012年第2期7-8,共2页 Semiconductor Information

关键词中芯国际集成电路制造超高密度芯片面积芯片尺寸工艺节点后段市场处工艺稳定性高级总监

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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