日本制造出只有一个原子厚的硅薄膜

日本北陆尖端科学技术大学院大学30日宣布,其研究小组开发出能制作大面积硅薄膜"silicene"的技术。这种只有一个原子厚的薄膜,可具备半导体的性质,有望用于制造高速电子线路等。研究小组在1厘米长、1厘米宽的硅基板表面,覆盖上陶瓷薄膜,然后在特殊真空装置中将其加热到900摄氏度。于是。