应材蚀刻技术大突破

半导体设备大厂应用材料推出最先进的蚀刻技术—AppliedCenturaAvatar介电层蚀刻系统,这项突破性的系统是解决建立3D存储器架构的严峻挑战;3D存储器架构可提供高密度兆位元储存容量,为未来资料密集型移动装置所必需。应用材料表示,Avatar系统可在复合薄膜堆叠层中进行孔洞性蚀刻及沟槽性蚀刻,深宽比可高达80比1,单一制程能同时蚀刻出各种不同深度的结构。