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日本东北大学开发出导通截止比为1万的石墨烯FET
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摘要
日本东北大学宣布,其研究人员开发出了沟道层使用新型碳材料——石墨烯晶体管,导通/截止比达到104以上。石墨烯一般没有带隙,因此即使制成晶体管也无法关闭,导通/截止比非常小。东北大学通过此次的技术开发解决了这一课题,而且还可实现超过当前硅半导体技术的晶体管高集成化。详细介绍该技术的论文已刊登在2012年9月9日发行的学术杂志《NatureNanotechnology》
作者
赵佶
出处
《半导体信息》
2012年第5期30-31,共2页
Semiconductor Information
关键词
石墨烯
FET
日本东北大学
纳米带
学术杂志
硅半导体
高集成化
INSULATOR
新型碳材料
技术开发
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
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半导体信息
2012年 第5期
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