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三氯氢硅合成副产物高聚氯硅烷的处理方法研究 被引量:2

Treatment on Synthesis of High Polychlorosilane from Trichlorosilane
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摘要 分别采用氢氧化钠饱和水溶液、氢氧化钙水溶液清液、氢氧化钠固体粉末、乙二胺四乙酸钠对合成三氯氢硅的副产物高聚氯硅烷进行处理。结果表明,氢氧化钠饱和水溶液、氢氧化钙水溶液清液会使高聚氯硅烷迅速发生水解反应,生成致密的Si O2固体,包裹未反应的高聚氯硅烷,从而阻止反应的进一步进行;氢氧化钠固体粉末无法与高聚物反应;乙二胺四乙酸钠在加热条件下能与高聚氯硅烷发生反应,且分解高聚氯硅烷,将其转化为可以安全进行排放的固渣。 Saturated aqueous solution of sodium hydroxide,calcium hydroxide aqueous solution,sodium hydroxide solid powder,and sodium ethylene diamine tetracetate were used for the treatment of the byproduct high polychlorosilane from trichlorosilane production process,respectively. Results showed that the saturated aqueous solution of sodium hydroxide and calcium hydroxide aqueous solution rapidly underwent hydrolysis of high polychlorosilane,generating a dense Si O2,and wrapped unreacted silane,thereby preventing further reaction. The sodium hydroxide solid powder could not react with high polychlorosilane. Sodium ethylene diamine tetracetate reacted with high polychlorosilane under high temperature,and it could decompose high polychloroprene silane,converting it to safety residues.
出处 《有机硅材料》 CAS 2015年第6期499-500,共2页 Silicone Material
关键词 三氯氢硅 多晶硅 高聚氯硅烷 氢氧化钠 氢氧化钙 乙二胺四乙酸钠 trichlorosilane polysilicon high poly-chlorosilane sodium hydroxide calcium hydroxide sodium ethylene diamine tetraacetate
  • 相关文献

参考文献2

  • 1叶留金.中华人民共和国乐山市多晶硅工厂三氯氢硅合成车间基础设计(第Ⅱ卷第2册)[M].乐山:俄罗斯稀有金属设计院、俄罗斯国家合成设计院无限股份公司,2003:252-283.
  • 2朱家骅,叶世超,夏素兰.化工原理(第二版)[M].成都:四川大学,2003:175-192.

同被引文献694

引证文献2

二级引证文献4

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